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一、核心参数与技术规格 设备基础信息 型号:HVC-1550DA(韩一系列旗舰款) 镀膜技术:物理气相沉积(PVD)双电子枪蒸发镀膜 真空系统 配置:涡轮分子泵(抽速1200L/s)+ 机械泵(抽速16L/s) 极限真空度:≤2×10⁻³Pa(优于行业标准30%) 电子枪性能 双枪独立控制:束流200mA/枪,高压10kV可调 蒸发速率:≥5nm/s(Al材料实测值) 加工能力 最大基片尺寸:Φ1550mm(兼容圆形/方形基板) 装夹方式:行星式公转+自转(转速0-30rpm无级调节) 动力系统 电源:3相380V±10%,功率120kVA(峰值) 冷却方式:双循环水冷系统(流量≥20L/min) 二、功能特点与创新设计 1. 精密镀膜控制 光学监控系统(HOMS):实时膜厚反馈,精度±0.5nm 双枪协同模式:支持Al/Ag/ITO等材料共蒸镀,膜层均匀性≤±3% 2. 工艺扩展性 可选配23寸射频离子源(频率13.56MHz),提升膜基结合力 模块化设计:兼容磁控溅射、电阻蒸发等多工艺切换 3. 智能操作系统 10寸人机界面:预设20种镀膜工艺配方 故障自诊断系统:实时监控真空泄漏、枪头过热等异常 三、市场信息与供应商服务 设备定位 应用领域:手机镜头镀膜(AR/IR滤光片)、车载HUD镜片、光伏玻璃减反射 竞品对比:较同类单枪设备效率提升40%,膜层均匀性提高25% 技术支持 联系人:杨经理 18103045976(提供工艺调试、配件更换服务) 培训服务:含3天现场操作培训及年度维护套餐 四、操作维护要点 开机流程 启动顺序: 冷却系统→真空泵组→电子枪预热(需30分钟稳定) 工艺参数:建议基片温度150-250℃,沉积速率2-8nm/s 维护周期 电子枪灯丝:每500小时更换(原厂寿命800小时) 真空密封圈:每6个月检查,氟橡胶材质需防老化处理
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