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[出售] 二手日本光驰otfc-1550真空镀膜机真空室尺寸:Ф1550×1800mm

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发表于 2025-6-18 14:08 |只看该作者 |倒序浏览

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‌一、核心配置与规格‌‌真空系统‌真空室尺寸:Ф1550×1800mm,材质为SUS304不锈钢,适配玻璃、塑胶、晶体等多种基材。工件架直径:Ф1400mm,转速10-30rpm可调,支持行星式或钟罩式运行模式。排气系统:机械泵(275/SV630型号)+罗茨泵(爱德华品牌)+扩散泵+低温冷凝器(POLYCOLD),极限真空度≤7.0×10⁻⁵Pa,抽真空至工作压力仅需15分钟。‌镀膜组件‌(详情 杨经理:18103045976)‌离子源‌:标配23寸射频离子源(RF离子源),通过高密度离子电流提升膜层致密性与附着力,耐摩擦性通过4万次测试验证;部分型号可选17寸RF离子源。‌蒸发源‌:双电子枪(16F或16P型号),搭配12穴环形坩埚及热阻蒸装置,支持100层以上复杂膜系结构。‌膜厚监控‌:光学监控:HOM2R-VIS350A膜厚监控仪,波长范围350-1100nm(反射/透射式)。晶控系统:6点式水晶传感器+XTC/3控制系统,实现纳米级精度及在线阻针检测。‌自动化与辅助系统‌全自动蒸镀流程控制,减少人工干预。水冷需求:180-220L/min,空气压力≥0.5MPa310。电源:3相200V/50-60Hz,整机功率80-120KVA,重量约10-12吨。‌二、核心应用领域‌‌光学镀膜‌:高反射膜(HR)、介质膜(如IR-CUT滤光片、分色滤光片、光纤器件)。AR抗反射膜、AF防指纹膜(适用于摄像头镜头、触摸屏等)。‌特种镀膜‌:ITO导电膜、LED光学薄膜、超多层复合膜。汽车后视镜片、半导体晶圆表面镀膜。‌三、技术优势‌‌高稳定性‌:磁密封驱动旋转基板,确保膜厚分布均匀。深冷系统与护板组件延长设备寿命。‌量产能力‌:支持单次蒸镀200层以上膜系,膜厚可达20000nm,满足高OD值(光学密度)滤光片需求(如生物医疗用荧光滤光片)。‌工艺适应性‌:兼容行星式/钟罩式工件架,适应不同基材与膜系设计。‌四、二手设备与增值服务‌‌设备状态‌:多为2015-2017年生产,部分仍在产线使用,已完成精度与稳定性验证。‌配套服务‌:提供免费安装调试、3个月保修及工艺培训。 微信图片_20250528093603.jpg 微信图片_20250528093635.jpg 微信图片_20250528093641.jpg 微信图片_20250528093708.jpg 微信图片_20250526135612.jpg 微信图片_20250526135609.jpg

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