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韩一镀膜机的工作原理基于真空环境下物理气相沉积技术,主要分为以下技术类型及关键步骤: 一、真空系统构建- 真空抽气阶段:通过机械泵、分子泵等真空泵组将腔室抽至高真空状态(通常达10^-4~10^-6 Pa),消除空气杂质对镀膜过程的影响12。
- 真空维持:真空罐与排气系统配合,利用罗茨泵、扩散泵等设备维持稳定真空环境,确保沉积粒子与基底有效结合34。
二、核心镀膜技术(一)蒸发镀膜- 材料汽化:通过电阻加热、电子束轰击等方式使靶材蒸发,形成气态原子或分子流14。
- 沉积控制:通过精确调控温度、基板旋转速率及真空压力,实现纳米级膜层厚度控制,适用于金属单质或简单化合物镀膜46。
(二)溅射镀膜- 等离子体激发:在磁场辅助下,利用高能离子轰击靶材表面,使靶原子以溅射形式脱离靶材28。
- 成膜特性:能量较高的溅射粒子可形成更致密的膜层,适用于高精度光学膜(如AR/AF膜)和复杂化合物镀层38。
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