二手日本光驰OTFC-1550光学镀膜机 真空电镀机适合:AR膜 AF膜 高反膜 多层膜

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[color=var(--md-box-samantha-normal-text-color)  !important]日本光驰镀膜机的蒸镀系统通常采用[color=var(--md-box-samantha-deep-text-color) !important]物理气相沉积（PVD）中的真空蒸发镀膜方式4。具体过程是在真空条件下，通过加热蒸发源使镀膜材料汽化，然后气态的镀膜材料在基片表面凝聚成膜。

[color=var(--md-box-samantha-normal-text-color)  !important]光驰镀膜机常用的加热蒸发方式有电阻加热和电子束加热。电阻加热源结构简单、操作方便，通过电流通过电阻材料产生热量来加热镀膜材料。电子束加热法是利用热阴极发射的电子在电场作用下，获得动能轰击到作为阳极的蒸发材料上，将其动能转化为加热材料的内能而使材料蒸发。

[color=var(--md-box-samantha-normal-text-color)  !important]此外，光驰镀膜机也可能采用 ** 离子辅助沉积（IAD）** 技术4。该技术是在蒸镀过程中，用离子照射基片上蒸镀形成的薄膜，从而改善薄膜的附着力和质量，实现具有良好耐候性的高密度电介质薄膜成膜4。OTFC-1550光学镀膜机配置:

真空室：SUS304,Ф1550*1800MM

工件架：Ф1400

工件架转速：10rpm to 30rpm (可变)

光学膜厚控制：HOM2

光学膜厚监控仪：波长范围: 350nm to 1100nm |反射式

蒸发源：双枪，伞一个

离子源：17寸射频源

排气系统：光驰镀膜机泵组一套

电源：3相, 200v, 50/ 60Hz,约120KVA

水流量：180升/分以上

空气压力：0.5MPa以上

重量：约11000kg

年份：2017年

[color=var(--md-box-samantha-deep-text-color)  !important]物理气相沉积（PVD）中的真空OTFC-1550光学镀膜机配置:

真空室：SUS304,Ф1550*1800MM

工件架：Ф1400

工件架转速：10rpm to 30rpm (可变)

光学膜厚控制：HOM2

光学膜厚监控仪：波长范围: 350nm to 1100nm |反射式

蒸发源：双枪，伞一个

离子源：17寸射频源

排气系统：光驰镀膜机泵组一套

电源：3相, 200v, 50/ 60Hz,约120KVA

水流量：180升/分以上

空气压力：0.5MPa以上

重量：约11000kg

年份：2017年

[color=var(--md-box-samantha-deep-text-color)  !important]蒸发镀膜[color=var(--md-box-samantha-normal-text-color) ]