回收出售二手日本光驰otfc-1550带涉频源光学镀膜机 真空电镀机含安装保修

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工作原理

• [color=var(--md-box-samantha-deep-text-color) !important]物理气相沉积（PVD）：在真空环境下，通过加热蒸发源使镀膜材料汽化，然后气态的镀膜材料在基片表面凝结成薄膜。例如，在光学镀膜中，通过蒸发金属或氧化物等材料，在镜片表面形成增透膜、反射膜等3。
• [color=var(--md-box-samantha-deep-text-color) !important]化学气相沉积（CVD）：利用气态的化学物质在高温或等离子体等条件下发生化学反应，在基片表面生成固态薄膜。如在半导体制造中，通过 CVD 工艺可以沉积出二氧化硅、氮化硅等薄膜。
  

结构组成3

• [color=var(--md-box-samantha-deep-text-color) !important]真空系统：由真空罐、机械泵、罗茨泵和真空泵等组成，负责排出真空罐内的气体，使罐内形成真空环境，以防止空气分子对溅射离子的影响，提高膜层的质量。
• [color=var(--md-box-samantha-deep-text-color) !important]蒸镀系统：主要指成膜装置部分，包括电阻加热、电子枪蒸发、磁控溅射、射频溅射、离子镀等多种成膜方式，用于将镀膜材料转化为气态并沉积在基片上。
• [color=var(--md-box-samantha-deep-text-color) !important]冷却系统：用于冷却真空罐、蒸发源等部件，防止设备在工作过程中过热，保证设备的正常运行和膜层质量。
• [color=var(--md-box-samantha-deep-text-color) !important]电气系统：负责控制镀膜机的各个部件，包括真空系统的抽气过程、蒸镀系统的蒸发功率、冷却系统的冷却速度等，同时还提供镀膜过程中的各种监测和控制功能。
  

OTFC-1550光学镀膜机配置:

真空室：SUS304,Ф1550*1800MM

工件架：Ф1400

工件架转速：10rpm to 30rpm (可变)

光学膜厚控制：HOM2

光学膜厚监控仪：波长范围: 350nm to 1100nm |反射式

蒸发源：双枪，伞一个

离子源：17寸射频源

排气系统：光驰镀膜机泵组一套

电源：3相, 200v, 50/ 60Hz,约120KVA

水流量：180升/分以上

空气压力：0.5MPa以上

重量：约11000kg

年份：2017年