日本光驰OTFC-2350光学镀膜机为高性能真空镀膜设备，适用于AF膜（防污膜）、AR膜（防反射膜）等光学涂层的批量生产

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一、设备概述‌型号‌：OTFC-2350（Gener-2350系列）用途‌：光学镀膜，支持AF膜、AR膜及复合膜层的镀制26‌适用领域‌：车载镜片、工业面板、智能手机触摸屏等大尺寸基材（销售技术杨经理18103045976）
二、技术参数
类别参数详情
‌真空系统‌ 真空室直径2350mm×高度1400mm，极限真空度≤7.0×10⁻⁵Pa，排气时间≤15分钟（大气压至2.0×10⁻³Pa）
‌基板处理‌ 支持5片式基板架（Ф2200mm），磁密封驱动旋转（20rpm），确保膜厚均匀性
‌蒸发源配置‌ 电子枪+热阻蒸双蒸发源设计，兼容玻璃、PVC、蓝宝石等多种材料
‌离子源‌ 配备RF射频离子源，提升膜层耐摩擦性（通过4万次以上摩擦测试）
‌控制系统‌ 晶振式膜厚计（6点式水晶传感器），支持高精度膜厚监控
‌电源与能耗‌ 三相200V电源，功耗约80KVA；水流量≥220升/分，空气压力0.5-0.7 MPa
‌物理尺寸‌ 设备尺寸约6300mm（宽）×9000mm（深）×4000mm（高），重量约12000kg
三、性能优势
‌高稳定性‌：扩散泵深冷系统+机械泵组合，保障连续生产稳定性。
‌效率优化‌：支持多片大尺寸基材同步处理，适配工业级批量生产需求。
‌膜层质量‌：RF离子源技术增强膜层致密性，耐环境性能（耐酸碱、抗冷热冲击）优异




一、设备概述‌型号‌：OTFC-2350（Gener-2350系列）26‌用途‌：光学镀膜，支持AF膜、AR膜及复合膜层的镀制26‌适用领域‌：车载镜片、工业面板、智能手机触摸屏等大尺寸基材26二、技术参数类别        参数详情‌真空系统‌        真空室直径2350mm×高度1400mm，极限真空度≤7.0×10⁻⁵Pa，排气时间≤15分钟（大气压至2.0×10⁻³Pa）26‌基板处理‌        支持5片式基板架（Ф2200mm），磁密封驱动旋转（20rpm），确保膜厚均匀性26‌蒸发源配置‌        电子枪+热阻蒸双蒸发源设计，兼容玻璃、PVC、蓝宝石等多种材料23‌离子源‌        配备RF射频离子源，提升膜层耐摩擦性（通过4万次以上摩擦测试）26‌控制系统‌        晶振式膜厚计（6点式水晶传感器），支持高精度膜厚监控6‌电源与能耗‌        三相200V电源，功耗约80KVA；水流量≥220升/分，空气压力0.5-0.7 MPa36‌物理尺寸‌        设备尺寸约6300mm（宽）×9000mm（深）×4000mm（高），重量约12000kg6三、性能优势‌高稳定性‌：扩散泵深冷系统+机械泵组合，保障连续生产稳定性3。‌效率优化‌：支持多片大尺寸基材同步处理，适配工业级批量生产需求26。‌膜层质量‌：RF离子源技术增强膜层致密性，耐环境性能（耐酸碱、抗冷热冲击）优异67。四、附加服务（二手设备）‌售后支持‌：含设备安装、工艺培训及保修服务37。‌兼容性‌：可扩展配置如射频源、晶控系统等，适应不同工艺需求3。该设备凭借高真空性能与模块化设计，成为光学镀膜行业中对精度和效率要求严苛场景的理想选择