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一、核心参数与配置[color=var(--cos-color-text)]真空室规格 - 直径2350mm × 高度1400mm,基板架直径2200mm,支持5片式旋转(转速10-30rpm可调)12。
- 真空系统采用机械泵+罗茨泵+扩散泵组合,极限真空度≤7.0×10⁻⁵Pa,抽气至工作真空仅需15分钟35。
[color=var(--cos-color-text)]蒸发源与离子源 - 标配单电子枪+热阻蒸,部分机型可选配双电子枪或23寸射频离子源(RF离子源),提升镀膜效率和耐摩擦性23。
- RF离子源通过高密度离子电流处理基板表面,显著提升膜层致密性(通过4万次摩擦试验)15。
[color=var(--cos-color-text)]膜厚控制 - 晶振式膜厚计搭配6点式水晶传感器,部分设备集成光学膜厚监控仪(波长范围350-1100nm),实现纳米级精度控制13。
二、应用场景- 消费电子领域:适用于智能手机触摸屏的防污膜(AS膜)、防反射膜(AR膜)及复合膜(AS+AR+AF膜)批量生产12。
- 车载与工业领域:支持大尺寸基材(如车载镜片、新能源面板)镀膜,兼容玻璃、PVC、蓝宝石等材料35。
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