二手日本光驰光学滤光片专用镀膜机 光学涂层设备 镀膜设备otfc-1550

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OTFC-1550光学镀膜机配置:

真空室：SUS304,Ф1550*1800MM

工件架：Ф1400

工件架转速：10rpm to 30rpm (可变)

光学膜厚控制：HOM2

光学膜厚监控仪：波长范围: 350nm to 1100nm |反射式

蒸发源：双枪，伞一个

离子源：17寸射频源

排气系统：光驰镀膜机泵组一套

电源：3相, 200v, 50/ 60Hz,约120KVA

水流量：180升/分以上

空气压力：0.5MPa以上

重量：约11000kg

年份：2017年

性能特点

• [color=var(--md-box-samantha-deep-text-color) !important]高精度镀膜：采用石英晶体膜厚控制仪等先进技术，可实现镀膜过程的自动控制，能够精确控制膜层厚度，膜厚均匀性可达到＜±3%，满足各种高精度光学镀膜和半导体镀膜的需求5。
• [color=var(--md-box-samantha-deep-text-color) !important]高生产效率：设备真空系统抽速大，具有抽气时间短、真空度高、生产周期短等优点。同时，一些型号的镀膜机支持多层膜工艺和高镀率蒸镀制程，有利于超厚薄膜的制备，提高了生产效率5。
• [color=var(--md-box-samantha-deep-text-color) !important]多功能性：可以通过更换不同的蒸发源和镀膜材料，实现多种镀膜工艺，如蒸发沉积镀膜、溅射沉积镀膜等，还能制备各种功能薄膜，如光学薄膜、电学薄膜、力学薄膜等13。
• [color=var(--md-box-samantha-deep-text-color) !important]操作简便：采用人性化的设计，人机操作界面美观实用，系统稳定可靠，可实现系统的手动、半自动和全自动操作，方便操作人员进行参数设置和设备监控5。