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[出售] 二手16B-5P晶圆片全自动抛光机‌:专用于硅片双面研磨与平磨,支持晶圆片高精度处理‌

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发表于 2025-4-15 11:46 |只看该作者 |倒序浏览

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‌一、基础参数与结构‌‌型号与品牌‌‌型号‌:16B双面抛光机(部分厂商型号后缀可能标注为16B-45或16B-XL,适应大尺寸工件加工)‌。‌(详情杨经理:18103045976)‌研磨盘配置‌‌盘体尺寸‌:上下双盘设计,直径φ1200-1500mm,支持金刚石/树脂盘面更换‌。‌传动系统‌:斜齿轮+同步带组合驱动,转速范围0-75rpm(变频调速)‌。‌加工能力‌‌工件尺寸‌:最大加工直径φ500mm,厚度范围0.1-50mm‌。‌平面度控制‌:加工后工件平面度≤0.5μm(φ100mm区域)‌。‌二、核心配置与功能‌‌驱动与控制系统‌‌多电机独立驱动‌:上下盘、游星轮及压力轴独立控制,支持动态压力调节(0.05-0.3MPa)‌。‌人机交互界面‌:10英寸触摸屏集成PLC,可存储100组工艺配方‌。‌工艺适配性‌‌材料兼容‌:适用于硅片、碳化硅、蓝宝石等硬脆材料,以及铜/铝基合金精密抛光‌。‌抛光液循环‌:内置双通道供液系统,流量范围10-300L/min(支持纳米金刚石浆料)‌。‌三、行业应用案例‌‌半导体领域‌‌12英寸硅片减薄‌:厚度一致性±1μm(全盘面)‌。‌碳化硅衬底抛光‌:表面粗糙度Ra≤0.02μm(CMP后处理)‌。‌工业部件加工‌‌金属密封环‌:双面平行度≤1μm,Ra≤0.05μm(批量生产场景)‌。‌四、设备选型建议‌‌大尺寸加工‌:优先选择φ1500mm盘面型号(如16B-45),需匹配高刚性机架‌35。‌高精度需求‌:赫瑞特机型集成在线厚度检测模块,适合半导体级工艺‌
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