‌日本光驰OTFC-1550真空镀膜机23寸射频离子源（RF离子源）包安装调试培训

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日本光驰OTFC-1550真空镀膜机基本参数‌1. 真空室规格‌‌尺寸‌：Ф1550×1800mm，材质为SUS304不锈钢，具备高耐腐蚀性和密封性‌。‌工件架‌：直径Ф1400mm，转速10-30rpm可调，支持多类型基板均匀镀膜‌。‌2. 蒸发源与射频源‌‌蒸发源‌：配备双电子枪（16F型号）及12穴环形坩埚，支持复杂多层镀膜（100层以上）‌。‌射频离子源‌：搭载23寸射频源（RF离子源），通过高密度离子电流提升膜层致密性和耐摩擦性（通过4万次摩擦试验验证）‌。‌3. 排气系统‌‌泵组组合‌：机械泵（275/SV630型号）+罗茨泵（爱德华品牌）+扩散泵+低温冷凝器（POLYCOLD），极限真空度≤7.0×10⁻⁵Pa‌14。‌抽气效率‌：抽气至工作真空仅需15分钟‌。‌4. 膜厚监控与传感器‌‌光学膜厚监控仪‌：集成HOM2R-VIS350A系统，波长范围350-1100nm，支持反射式监控‌。‌传感器配置‌：6点式水晶传感器（XTC/3+型），实现纳米级精度控制‌。‌5. 电源与能耗‌‌电源需求‌：3相200V，50/60Hz，功率约80-120KVA‌。‌辅助系统‌：水流量≥180升/分，空气压力≥0.5MPa‌。‌6. 应用领域‌‌光学器件‌：红外截止滤光片、分色滤光片等成膜工艺‌。‌电子与显示‌：智能手机触摸屏防污膜（AS膜）及防反射膜（AF+AS膜）批量生产‌。‌精密镀膜‌：支持陶瓷、金属基板等材料的复杂多层镀膜‌。‌设备尺寸与重量‌‌尺寸‌：约6300mm（宽）×9000mm（深）×4000mm（高）‌。‌重量‌：约11000-12000kg‌