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标题: 二手日本光驰镀膜机/射频源真空镀膜机/滤光片高反膜电镀机/光学涂层机otfc-1550 [打印本页]

作者: HC112233    时间: 2025-4-16 09:34
标题: 二手日本光驰镀膜机/射频源真空镀膜机/滤光片高反膜电镀机/光学涂层机otfc-1550
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设备介绍 日本光驰(Optorun)镀膜机是一种精密的真空镀膜设备,主要用于在各种材料表面沉积薄膜,如光学元件、半导体器件、磁性材料、装饰镀膜等。其工作原理和保养流程如下: 工作原理: 真空环境建立: 首先,镀膜机通过机械泵和分子泵等系统将腔体内空气抽至极低的真空度(通常达到10^-6 Pa或更低),以消除气体对镀膜过程的影响,确保薄膜的纯净度和均匀性。 蒸发源加热: 根据所要镀制的薄膜材料,选择相应的蒸发源(如电阻加热、电子束加热、射频感应加热等)。蒸发源通电后,将蒸发材料加热至其蒸发温度,使其从固态转变为气态。 蒸发与沉积: 气化的蒸发材料在真空环境中以分子或原子形态向待镀工件表面扩散。当这些粒子到达工件表面时,由于温度降低而凝结,形成所需的薄膜。在此过程中,镀膜机通过精确控制蒸发速率、工件转速(对于旋转式镀膜机)、靶材与工件的距离等因素,以保证薄膜的厚度、均匀性和附着力。 监控与控制: 镀膜过程中,设备配备的实时监测系统(如 quartz crystal monitor、optical emission spectrometer 等)持续监测腔体内的真空度、蒸发速率、薄膜厚度等参数,确保镀膜工艺的稳定进行。控制系统根据监测数据自动调整相关参数,或由操作人员手动干预。
真空室:SUS304,Ф1550*1800MM
工件架:Ф1400
工件架转速:10rpm to 30rpm (可变)
光学膜厚控制:HOM2
光学膜厚监控仪:波长范围: 350nm to 1100nm |反射式
蒸发源:双枪,伞一个
离子源:17寸射频源
排气系统:光驰镀膜机泵组一套
电源:3相, 200v, 50/ 60Hz,约120KVA
水流量:180升/分以上
空气压力:0.5MPa以上
重量:约11000kg
年份:2017
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